SCHOOL OF CHEMICAL ENGINEERING

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副教授

王 拓

现任职称/职务:副教授、博士生导师
通讯地址:天津市南开区卫津路92号
电子邮箱:wangtuo@tju.edu.cn
办公电话:gonglab.tju.edu.cn

研究方向:

原子层沉积(ALD)等薄膜气相沉积技术及相关表界面机理;光催化水分解制氢、光催化CO2还原

实验室链接:Link

教育经历

2002年9月 – 2006年7月,天津大学,化学工程与工艺专业,本科

2006年8月 – 2010年8月,University of Texas at Austin,化工系,博士

工作经历:

2010年9月 – 2011年5月,University of Texas at Austin,化工系,博士后

2011年6月 – 2012年6月,Lam Reaearch Corp., PECVD Business Unit, Process Development Engineer

2012年8月 – 至今,天津大学,化工学院,副教授

研究简介:

(1)薄膜沉积:一种高度可控的材料制备技术


原子层沉积:http://en.wikipedia.org/wiki/Atomic_layer_deposition

(2)化工学科与薄膜沉积的关系:薄膜沉积系统的本质是化工反应器

Thin film: http://en.wikipedia.org/wiki/Thin_film

CVD: http://en.wikipedia.org/wiki/Chemical_vapor_deposition

(3)光解水制氢、CO2光还原:将太阳能直接转换为化学能

Photoelectrochemical (PEC) cell: http://en.wikipedia.org/wiki/Photoelectrochemical_cell